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日本filgen去除有機污染物UV臭氧清洗儀進口 UV253MINI UV253MINI是一種通過UV（紫外線）和臭氧的協(xié)同作用去除有機污染物的UV臭氧凈化器。 通過有機溶劑清洗或超聲波清洗等，可除去濕式清洗無法除去的有機污染物質(zhì)。 UV燈具有兩個短波長，即184.9nm產(chǎn)生臭氧效果高，253.7nm促進臭氧活化。

日本Filgen紫外臭氧有機溶劑超聲波清洗儀 UV253V8/UV253V8R ●單獨使用超聲波清洗無法去除的基材上的有機污染物可以輕松去除。 ●濕法清洗中使用的有機溶劑也被去除。 ●可以在不損壞基材表面的情況下去除有機污染物。 ●LB膜的堆積變得容易。（累計率將大幅提升。） ●一種可在常壓下使用且不需要真空裝置的干洗設(shè)備。

Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物 兼容晶圓、石英、玻璃、藍(lán)寶石、SiC等多種材質(zhì)。 結(jié)合高壓間歇噴射、二流體噴射、各種刷子、超聲波、化學(xué)溶液等，可應(yīng)對從粗加工到各種清洗工藝。拋光后清洗至精密清洗。

日本kokusai-electric單頻專用超聲波清洗機 UO600PB/UO600PB-Y系列 通過提前選擇振蕩模式（單頻或掃頻），客戶可以進行適合清潔情況的單功能清潔。

日本ribteras紫外線臭氧清洗儀高照射效率 UVS2001N/UVS2003N 用于研發(fā)的高性能UV臭氧清洗設(shè)備，可處理最大200mm見方的基材 從研發(fā)到樣品制作、量產(chǎn)都能應(yīng)對 的UV臭氧清洗設(shè)備。

日本ribteras高性能紫外線臭氧清洗儀高輸出 UVS1101N 一種高性能、低價格的 UV 臭氧清洗裝置， 非常適合研究和開發(fā)應(yīng)用。

日本ribteras紫外線臭氧清洗儀重整器高性能 UVS401Y-01/UVS401Y-02 緊湊且低價的 UV 臭氧清潔裝置，非常適合高性能研究。 還提供集成臭氧分解裝置模型。